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        • 30W-200W半導體激光器.png
        • 30W-200W半導體激光器.png
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        30W/50W/200W半導體激光器

        30W/50W/200W 主要用于光伏電池檢查,檢測是一種基于光學激發和高靈敏相機成像的非接觸式檢測方法,廣泛應用于硅片、太陽能電池片以及其他半導體材料的質量檢測。

        • 30/50/200W
          功率可選范圍
        • 808±5/915±10nm
          中心波長
        • 10nm
          半波全寬
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        • 產品優勢

        • 產品參數

        • 相關產品

        產品優勢

        • 非接觸式檢測

          PL檢測采用非接觸式的方法,對硅片不造成任何物理損傷或污染,確保樣品在檢測過程中保持完好

        • 高靈敏度

          PL檢測能夠發現微米級別甚至納米級別的缺陷和雜質,其靈敏度遠高于傳統方法

        • 快速高效

          PL檢測可以在短時間內處理大量樣品,大幅提高生產效率和產品質量控制的效率

        產品參數

        系列型號
        • JPT-30W
          200w1.png
        • JPT-50W
          200w2.png
        • JPT-200W
          200w1.png
        • 輸出功率(W)
        • 中心波長(nm)
        • 中心波長偏差
        • 典型工作距離(mm)
        • 可檢硅片尺寸(mm)
        • 配電需求(V)
        • IO接口(V)
        • 平均功耗(W)
        • 出光控制方式
        • 功率調節方式
        • 工作溫濕度(℃)
        • 尺寸 (L×W×H)(mm)
        • 重量(kg)
        • 適用工藝
        • 冷卻方式
        • JPT-30W

          200w1.png
          • 輸出功率(W)
            30
          • 中心波長(nm)
            808
          • 中心波長偏差
            ±5
          • 典型工作距離(mm)
            230~260
          • 可檢硅片尺寸(mm)
            ≤230
          • 配電需求(V)
            220
          • IO接口(V)
            白 0~24V+/黑 0~0.5V-
          • 平均功耗(W)
            100
          • 出光控制方式
            GUI/IO接口
          • 功率調節方式
            GUI
          • 工作溫濕度(℃)
            20~30;<80%
          • 尺寸 (L×W×H)(mm)
            205×111×123
          • 重量(kg)
            ≈4
          • 適用工藝
            硅片鍍膜后工藝
          • 冷卻方式
            風冷
        • JPT-50W

          200w2.png
          • 輸出功率(W)
            50
          • 中心波長(nm)
            808
          • 中心波長偏差
            ±5
          • 典型工作距離(mm)
            230~260
          • 可檢硅片尺寸(mm)
            ≤230
          • 配電需求(V)
            220
          • IO接口(V)
            白 0~24V+/黑 0~0.5V-
          • 平均功耗(W)
            130
          • 出光控制方式
            GUI/IO接口
          • 功率調節方式
            GUI
          • 工作溫濕度(℃)
            20~30;<80%
          • 尺寸 (L×W×H)(mm)
            232×140×122
          • 重量(kg)
            ≈5
          • 適用工藝
            硅片擴散后工藝
          • 冷卻方式
            風冷
        • JPT-200W

          200w1.png
          • 輸出功率(W)
            200
          • 中心波長(nm)
            915
          • 中心波長偏差
            ±10
          • 典型工作距離(mm)
            230~260
          • 可檢硅片尺寸(mm)
            ≤230
          • 配電需求(V)
            220
          • IO接口(V)
            白 0~24V+/黑 0~0.5V-
          • 平均功耗(W)
            560
          • 出光控制方式
            GUI/IO接口
          • 功率調節方式
            GUI
          • 工作溫濕度(℃)
            20~30;<80%
          • 尺寸 (L×W×H)(mm)
            450×235×70
          • 重量(kg)
            ≈10
          • 適用工藝
            硅原片以后工藝
          • 冷卻方式
            水冷
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